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离子镀膜设备的操作规范是怎样的?

发布时间:2019-07-17 15:12 点击量:

  1、设备中的真空管道、静态密封零部件(法兰、密封圈等)的结构形式,应符合GB/T6070的规定。

  2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管,分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时,应在测量口处安装电场屏蔽装置。

  3、如果设备使用的主泵为扩散泵时,应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱

  4、设备的镀膜室应设有观察窗,应设有挡板装置。观察窗应能观察到沉积源的工作情况以及其他关键部位。

  5、离子镀沉积源的设计应尽可能提高镀膜过程中的离化率,提高镀膜材料的利用率,合理匹配沉积源的功率,合理布置沉积源在真空室体的位置。

  6、合理布置加热装置,一般加热器结构布局应使被镀工件温升均匀一致。

  7、工件架应与真空室体绝缘,工件架的设计应使工件膜层均匀。

  8、离子镀膜设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制非正常放电装置,维持工作稳定。

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